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  • mos管的四種類型區(qū)別是什么
    • 發(fā)布時(shí)間:2019-08-14 14:31:11
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    解析mos管的四種類型-MOS管四種類型有什么區(qū)別及聯(lián)系
    mos管的四種類型
    mos管的四種類型,與結(jié)型場效應(yīng)管相同,MOS管工作原理動(dòng)畫示意圖也有N溝道和P溝道兩類,但每一類又分為增強(qiáng)型和耗盡型兩種,因此MOS管的四種類型為:N溝道增強(qiáng)型管、N溝道耗盡型管、P溝道增強(qiáng)型管、P溝道耗盡型管。凡柵極-源極電壓UGS為零時(shí)漏極電流也為零的管子均屬于增強(qiáng)型管,凡柵極-源極電壓UGS為零時(shí)漏極電流不為零的管子均屬于耗盡型管,所以下面一一介紹mos管的四種類型。
    mos管的四種類型-N溝道增強(qiáng)型的結(jié)構(gòu)與工作原理
    N溝道增強(qiáng)型MOS管結(jié)構(gòu)
    在一塊摻雜濃度較低的P型硅襯底上,制作兩個(gè)高摻雜濃度的N+區(qū),并用金屬鋁引出兩個(gè)電極,分別作漏極d和源極s。然后在半導(dǎo)體表面覆蓋一層很薄的二氧化硅(SiO2)絕緣層,在漏——源極間的絕緣層上再裝上一個(gè)鋁電極,作為柵極g。襯底上也引出一個(gè)電極B,這就構(gòu)成了一個(gè)N溝道增強(qiáng)型MOS管。MOS管的源極和襯底通常是接在一起的(大多數(shù)管子在出廠前已連接好)。它的柵極與其它電極間是絕緣的。
    圖(a)、(b)分別是它的結(jié)構(gòu)示意圖和代表符號(hào)。代表符號(hào)中的箭頭方向表示由P(襯底)指向N(溝道)。P溝道增強(qiáng)型MOS管的箭頭方向與上述相反,如圖(c)所示。
    mos管的四種類型
    N溝道增強(qiáng)型MOS管的工作原理
    (1)vGS對iD及溝道的控制作用
    ① vGS=0 的情況
    從圖1(a)可以看出,增強(qiáng)型MOS管的漏極d和源極s之間有兩個(gè)背靠背的PN結(jié)。當(dāng)柵——源電壓vGS=0時(shí),即使加上漏——源電壓vDS,而且不論vDS的極性如何,總有一個(gè)PN結(jié)處于反偏狀態(tài),漏——源極間沒有導(dǎo)電溝道,所以這時(shí)漏極電流iD≈0。
    ② vGS>0 的情況
    若vGS>0,則柵極和襯底之間的SiO2絕緣層中便產(chǎn)生一個(gè)電場。電場方向垂直于半導(dǎo)體表面的由柵極指向襯底的電場。這個(gè)電場能排斥空穴而吸引電子。
    排斥空穴:使柵極附近的P型襯底中的空穴被排斥,剩下不能移動(dòng)的受主離子(負(fù)離子),形成耗盡層。吸引電子:將 P型襯底中的電子(少子)被吸引到襯底表面。
    (2)導(dǎo)電溝道的形成:
    當(dāng)vGS數(shù)值較小,吸引電子的能力不強(qiáng)時(shí),漏——源極之間仍無導(dǎo)電溝道出現(xiàn),如圖1(b)所示。vGS增加時(shí),吸引到P襯底表面層的電子就增多,當(dāng)vGS達(dá)到某一數(shù)值時(shí),這些電子在柵極附近的P襯底表面便形成一個(gè)N型薄層,且與兩個(gè)N+區(qū)相連通,在漏——源極間形成N型導(dǎo)電溝道,其導(dǎo)電類型與P襯底相反,故又稱為反型層,如圖1(c)所示。
    vGS越大,作用于半導(dǎo)體表面的電場就越強(qiáng),吸引到P襯底表面的電子就越多,導(dǎo)電溝道越厚,溝道電阻越小。開始形成溝道時(shí)的柵——源極電壓稱為開啟電壓,用VT表示。
    上面討論的N溝道MOS管在vGS<VT時(shí),不能形成導(dǎo)電溝道,管子處于截止?fàn)顟B(tài)。只有當(dāng)vGS≥VT時(shí),才有溝道形成。這種必須在vGS≥VT時(shí)才能形成導(dǎo)電溝道的MOS管稱為增強(qiáng)型MOS管。溝道形成以后,在漏——源極間加上正向電壓vDS,就有漏極電流產(chǎn)生。
    vDS對iD的影響
    mos管的四種類型
    如圖(a)所示,當(dāng)vGS>VT且為一確定值時(shí),漏——源電壓vDS對導(dǎo)電溝道及電流iD的影響與結(jié)型場效應(yīng)管相似。
    漏極電流iD沿溝道產(chǎn)生的電壓降使溝道內(nèi)各點(diǎn)與柵極間的電壓不再相等,靠近源極一端的電壓最大,這里溝道最厚,而漏極一端電壓最小,其值為VGD=vGS-vDS,因而這里溝道最薄。但當(dāng)vDS較小(vDS
    隨著vDS的增大,靠近漏極的溝道越來越薄,當(dāng)vDS增加到使VGD=vGS-vDS=VT(或vDS=vGS-VT)時(shí),溝道在漏極一端出現(xiàn)預(yù)夾斷,如圖2(b)所示。再繼續(xù)增大vDS,夾斷點(diǎn)將向源極方向移動(dòng),如圖2(c)所示。由于vDS的增加部分幾乎全部降落在夾斷區(qū),故iD幾乎不隨vDS增大而增加,管子進(jìn)入飽和區(qū),iD幾乎僅由vGS決定。
    mos管的四種類型-N溝道耗盡型MOS管
    mos管的四種類型
    (1)結(jié)構(gòu):
    N溝道耗盡型MOS管與N溝道增強(qiáng)型MOS管基本相似。
    (2)區(qū)別:
    耗盡型MOS管在vGS=0時(shí),漏——源極間已有導(dǎo)電溝道產(chǎn)生,而增強(qiáng)型MOS管要在vGS≥VT時(shí)才出現(xiàn)導(dǎo)電溝道。
    (3)原因:
    制造N溝道耗盡型MOS管時(shí),在SiO2絕緣層中摻入了大量的堿金屬正離子Na+或K+(制造P溝道耗盡型MOS管時(shí)摻入負(fù)離子),如圖1(a)所示,因此即使vGS=0時(shí),在這些正離子產(chǎn)生的電場作用下,漏——源極間的P型襯底表面也能感應(yīng)生成N溝道(稱為初始溝道),只要加上正向電壓vDS,就有電流iD。
    如果加上正的vGS,柵極與N溝道間的電場將在溝道中吸引來更多的電子,溝道加寬,溝道電阻變小,iD增大。反之vGS為負(fù)時(shí),溝道中感應(yīng)的電子減少,溝道變窄,溝道電阻變大,iD減小。當(dāng)vGS負(fù)向增加到某一數(shù)值時(shí),導(dǎo)電溝道消失,iD趨于零,管子截止,故稱為耗盡型。溝道消失時(shí)的柵-源電壓稱為夾斷電壓,仍用VP表示。與N溝道結(jié)型場效應(yīng)管相同,N溝道耗盡型MOS管的夾斷電壓VP也為負(fù)值,但是,前者只能在vGS<0的情況下工作。而后者在vGS=0,vGS>0。
    mos管的四種類型-p溝道增強(qiáng)型MOS管
    (一)P溝道增強(qiáng)型mosfet的結(jié)構(gòu)和工作原理
    如圖(1)是P溝道增強(qiáng)型mosfet的結(jié)構(gòu)示意圖.通過光刻、擴(kuò)散的方法或其他手段,在N型襯底(基片)上制作出兩個(gè)摻雜的P區(qū),分別引出電極,稱為源極(s)和漏極(D),同時(shí)在漏極與源極之間的Si02絕緣層上制作金屬,稱為柵極(G),柵極與其他電極是絕緣的,所以稱為絕緣柵場效應(yīng)管 。圖(2)為P溝道增強(qiáng)型MOS管的電路符號(hào)。
    mos管的四種類型
    正常工作時(shí),P溝道增強(qiáng)型mosfet的襯底必須與源極相連,而漏心極對源極的電壓v璐應(yīng)為負(fù)值,以保證兩個(gè)P區(qū)與襯底之間的PN結(jié)均為反偏,同時(shí)為了在襯底頂表面附近形成導(dǎo)電溝道。柵極對源極的電壓‰也應(yīng)為負(fù).
    1.導(dǎo)電溝道的形成(VDS=0)
    當(dāng)VDS=0時(shí),在柵源之間加負(fù)電壓比,如圖(3)所示,由于絕緣層的存在,故沒有電流,但是金屬柵極被補(bǔ)充電而聚集負(fù)電荷,N型半導(dǎo)體中的多子電子被負(fù)電荷排斥向體內(nèi)運(yùn)動(dòng),表面留下帶正電的離子,形成耗盡層,隨著G、S間負(fù)電壓的增加,耗盡層加寬,當(dāng)v&增大到一定值時(shí),襯底中的空穴(少子)被柵極中的負(fù)電荷吸引到表面,在耗盡層和絕緣層之間形成一個(gè)P型薄層,稱反型層。
    如下圖(4)所示,這個(gè)反型層就構(gòu)成漏源之間的導(dǎo)電溝道,這時(shí)的VGs稱為開啟電壓VGS(th),啵到vGS(th)后再增加,襯底表面感應(yīng)的空穴越多,反型層加寬,而耗盡層的寬度卻不再變化,這樣我們可以用vGs的大小控制導(dǎo)電溝道的寬度。
    mos管的四種類型
    2.VDS≠O的情況
    導(dǎo)電溝道形成以后,D,S間加負(fù)向電壓時(shí),那么在源極與漏極之間將有漏極電流ID流通,而且ID隨/VDS/而增.ID沿溝道產(chǎn)生的壓降使溝道上各點(diǎn)與柵極間的電壓不再相等,該電壓削弱了柵極中負(fù)電荷電場的作用,使溝道從漏極到源極逐漸變窄,如圖(5)所示.當(dāng)VDS增大到使VGD=VGS(即VDS=VGS一VGS(TH)),溝道在漏極附近出現(xiàn)預(yù)夾斷。
    如圖(6)所示.再繼續(xù)增大VDS,夾斷區(qū)只是稍有加長,而溝道電流基本上保持預(yù)夾斷時(shí)的數(shù)值,其原因是當(dāng)出現(xiàn)預(yù)夾斷時(shí)再繼續(xù)增大VDS,VDS的多余部分就全部加在漏極附近的夾斷區(qū)上,故形成的漏極電流ID近似與VDS無關(guān)。
    mos管的四種類型
    (二)P溝道增強(qiáng)型mosfet的特性曲線和轉(zhuǎn)移特性曲線
    圖(7)、(8)分別是P溝道增強(qiáng)型M06管的漏極特性曲線和轉(zhuǎn)移特性曲線.漏極特性曲線也可分為可變電阻區(qū)、恒流區(qū)和夾斷區(qū)三部分.轉(zhuǎn)移特性曲線是、,璐使管子工作在漏極特性曲線的恒流區(qū)時(shí)所對應(yīng)的ID=F(VGS)曲線:
    ID與VGS的近似關(guān)系式為:
    mos管的四種類型
    mos管的四種類型-P溝道耗盡型MOS管
    P溝道MOSFET的工作原理與N溝道MOSFET完全相同,只不過導(dǎo)電的載流子不同,供電電壓極性不同而已。這如同雙極型三極管有NPN型和PNP型一樣。
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